2016-09-03
近期，EVENOPTICS获得了一项由中华人民共和国知识产权局授权的专利。
专利名称：一种紫外激光远心F-theta扫描场镜
专利编号：ZL201620112644.4
专利摘要：本发明涉及一种紫外激光远心F-theta扫描场镜。紫外激光远心F-theta扫描场镜，从激光入射方向开始，包括第一透镜、第二透镜、第三透镜和第四透镜，其中所述的第一透镜为双凹负透镜，第二透镜为凹面朝向入射光侧的弯月负透镜，第三透镜为双凸正透镜，第四片为双凸正透镜。与现有技术相比，本发明扫描场镜排布成“- + + +”的光焦度分布，使扫描场镜的出瞳位于无限远处，视场内的像方主光线的远心< 3°，扫描场镜的像散得到良好的校正，小于0.05mm，而且镜片加工容易，造价低廉。
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